Resist-Stripper für die Leiterplattenfertigung
Die EC RESIST-STRIP-Serie beinhaltet anwendungsbezogen unterschiedlich formulierte Stripper (Trockenfilme und Flüssigfilme) für Elektronik. Sie werden in der Leiterplattenfertigung und bei der Herstellung von IC-Substraten angewendet.
Dabei sind die äußerst ökonomischen Produkte EC RESIST-STRIP 20 und 30 sehr gute Stripper für einfache bis mittlere Technologien.
EC RESIST-STRIP 40 ist ein Stripper für höchste Ansprüche. Er quillt den Resist nur minimal und entfernt ihn folglich auch aus feinsten Strukturen (IC) und überplattierten Bereichen. Bei allen Strippern lässt sich die Fladengröße durch Temperatur und Konzentration steuern.
EC-RESIST-STRIP 50 hingegen ist ein Hybridstripper. Kombinierte organische, anorganische Hydroxide sowie ein pH-Wert-Stabilisator für den Batchbetrieb sorgen für eine einheitliche Strippgeschwindigkeit über die gesamte Lebensdauer.
Systemprofil
- Diverse Systeme für diverse Anwendungen (IC-Substrate und PCB)
- Minimale Volumenvergrößerung des Resists durch RESIST-STRIP
- Hohe und konstante Strippgeschwindigkeit
- TMAH/CHOLINE-freie Systeme
- Kein Kupfer- und kein Zinnangriff
- Problemlose AOI-Prüfbarkeit
- Eine Dosierkomponente
- Kompatibler Antischaum (EC FOAM-SHUT 100 und 900)
- Einstellbare Partikelgröße
Anwendungsprofil
- Geringe Arbeitstemperatur
EC RESIST-STRIP 20 – RESISTSTRIPPER ANORGANISCH
Der Resiststripper EC RESIST-STRIP 20 ist für eine Vielzahl von unterschiedlichen Trockenfilmen entworfen worden. Als alkalisches Konzentrat ist er geeignet für das Strippen alkalilöslicher Resisten. Er wird angewendet im Tauchverfahren wie auch horizontal. In Verbindung mit Wasser beweist er eine äußerst schnelle Strippgeschwindigkeit und verwendet keine giftigen organischen Hydroxide wie TMAH oder Choline.
EC RESIST-STRIP 30 – RESISTSTRIPPER ORGANISCH
Der Resiststripper EC RESIST-STRIP 30 ist für eine Vielzahl unterschiedlicher Trockenfilme entworfen worden und ist ein Konzentrat für das Strippen von alkalilöslichen Resisten. Das alkalisches Konzentrat weist in Verbindung mit Wasser eine äußerst schnelle Strippgeschwindigkeit aus und ist sowohl im Tauchverfahren als auch horizontal anwendbar. Er enthält organische und anorganische Hydroxide. EC RESIST-STRIP 30 strippt den Resist in feinen bis mittelfeinen Fladen.
EC RESIST-STRIP 40 – RESISTSTRIPPER ORGANISCH
Der Resiststripper EC RESIST-STRIP 40 wurde entwickelt für eine Vielzahl unterschiedlicher Trockenfilme. Er ist ein Konzentrat für das Strippen von alkalilöslichen Resisten. Das alkalische Konzentrat weist in Verbindung mit Wasser eine äußerst schnelle Strippgeschwindigkeit aus und ist sowohl im Tauchverfahren als auch horizontal anwendbar. EC RESIST-STRIP 40 enthält nur organische Hydroxide und strippt den Resist in feinen Partikeln.
EC RESIST-STRIP 50 – RESISTSTRIPPER stabilisiert
EC RESIST-STRIP 50 ist für das Strippen von alkalilöslichen Resisten entwickelt worden. Es ist sowohl im Tauchverfahren als auch horizontal anwendbar. Das alkalische Konzentrat weist in Verbindung mit Wasser eine äußerst schnelle Strippgeschwindigkeit aus und ist sowohl im Tauchverfahren als auch horizontal anwendbar. Als Resiststripper ist EC RESIST-STRIP 50 für eine Vielzahl von unterschiedlichen Trockenfilmen entworfen worden. EC RESIST-STRIP 50 enthält organische und anorganische Hydroxide. EC RESIST-STRIP 50 strippt den Resist in feinen bis mittelfeinen Fladen. EC RESIST-STRIP 50 ist „pH-stabilisiert“.
EC RESIST-STRIP 90 – RESISTSTRIPPER Hochleistungsstripper
EC RESIST-STRIP 90 ist für das Strippen von alkalilöslichen Resisten entwickelt worden. Es ist sowohl im Tauchverfahren als auch horizontal anwendbar. Das alkalische Konzentrat weist in Verbindung mit Wasser die schnellste Strippgeschwindigkeit von allen EC RESIST-STRIP-Strippern aus. EC RESIST-STRIP 90 kann Defizite der Anlagentechnik wie Filtration, Separation, Sprühbild und Sprühdruck kompensieren.
